纳米压印光刻技术通过在纳米尺度上”盖章”的独特方式，在硅光集成、汽车电子、高性能存储以及AR/MR等领域都扮演着关键的角色。

它不仅提供了超越传统光刻的精度潜力，更重要的是，为这些新兴领域的低成本与大规模制造开辟了切实可行的道路。随着相关设备和材料的不断成熟，我们有理由相信NIL将在未来的科技产品中发挥更重要的作用。