纳米压印是一种新型纳米图案复制技术，由普林斯顿大学的StephenY.Chou(周郁)教授于1995年提出。与传统光刻技术不同，纳米压印不依赖光学曝光和复杂的掩模投影系统，而是直接通过模具的几何形状转移图案，克服了衍射现象造成的分辨率极限问题。
与其他光刻技术相比，纳米压印具有高分辨率、低成本、能获得三维结构、适合大规模产业化生产等优势，广泛应用于半导体制造、光学器件生物传感器等领域，具有广阔的发展前景。